HOME > 主要設備・装置

• 電子ビーム描画装置（JEOL5D2SR）
• カーボンナノチューブ熱CVD装置
• カーボンナノチューブプラズマ・ホットフィラメントCVD装置
• 超高真空電子ビーム蒸着装置
• RFスパッタ装置
• 平行平板型反応性イオンエッチング装置
• ICP反応性イオンエッチング装置
• 簡易ECRイオンビームシャワー装置
• 抵抗加熱蒸着装置
• 急速加熱アニール装置
• 光リソグラフィー装置（マスクアライナー）
• 超音波ワイアーボンダー
• プラズマCVD装置
• 超高真空カーボンナノチューブ作製装置

など（ほとんどはクリーンルーム内に設置）

• 高分解能走査型電子顕微鏡
• 走査型原子間力顕微鏡
• 透過型電子顕微鏡（共同利用機器）
• Ｘ線回折装置（共同利用機器）
• 顕微ラマン・フォトルミネッセンス装置

など

• 希釈冷凍機装置（マイクロ波・ミリ波導入機構付き、最大磁場10T）
• 水平磁場光学窓付き4Heクライオスタット（10T）
• 4Heクライオスタット
• ヘリウムフリーマグネット（５T）
• サブミリ波・テラヘルツ波ガスレーザー
• マイクロ波ネットワークアナライザ（20GHz）、電気パルス発生装置、マイクロ波発生器（50GHz）
• 低雑音直流電流測定システム

など